Китай предприема решителен ход в надпреварата за технологично превъзходство, като стартира серийното производство на собствени литографски системи с дълбока ултравиолетова (DUV) имерсионна технология. Това е директен отговор на западните ограничения, които стават все по-строги, и цели да намали зависимостта на страната от чуждестранни доставчици на чипове.

Държавно подкрепеното предприятие в Шанхай вече организира производствения процес, като първите апарати трябва да бъдат внедрени в китайски заводи още през тази година. Първоначалните партиди са предвидени за водещите местни компании – SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies. Планът предвижда пет инсталации през настоящата година и близо двадесет допълнителни машини през следващата.

Изборът на тези три компании не е случаен. Американските законодатели подготвят нови регулаторни мерки, които целят пълното прекъсване на търговските им отношения с ASML – холандския гигант, доминиращ на пазара за литографско оборудване. За да отговори, Пекин обединява инженерните ресурси на няколко вътрешни стартъпа, включително екипи от Shanghai Yuliangsheng Technology, чиито прототипи вече се тестват в реални производствени условия.

Въпреки че повечето компоненти в новите китайски DUV системи са местни, пълният суверенитет все още не е постигнат. Част от критичните оптични елементи се доставят от Япония, а забавянията в местната верига на доставки ограничават първоначалния капацитет.

В същото време ASML запазва голямо предимство – компанията планира над 130 имерсионни доставки през годината. Приходите от китайския пазар обаче отбелязват спад от една трета до около една пета от общия поток на оборудване, което се дължи на търговските ограничения и на ориентацията на местните производители към техни собствени алтернативи.

Експертите посочват, че китайската DUV технология може да произвежда 28-нанометрови чипове с единично експониране и до 7-нанометрови с многократно моделиране. Този процес обаче крие рискове от разместване на слоевете и по-нисък процент на годна продукция в сравнение с EUV литографията, която остава недостъпна за Китай.

Анализаторите смятат, че сертифицирането и фината настройка на китайските машини ще отнеме месеци, като тяхната производителност и прецизност все още изостават от западните стандарти. Разработването на собствен EUV прототип продължава, но е далеч от масово приложение. Въпреки това, стартът на серийното DUV производство е ясен сигнал за темпа на технологична автономия, който Азия набира.